Microscopio electrónico de barrido de emisión de campo Schottky de ultraalta resolución serie SEM-X

Descripción del Producto 

ElMicroscopio electrónico de barrido de emisión de campo Schottky de ultraalta resolución serie SEM-XRedefine la nanoimagen al combinar ultraalta resolución, sensibilidad de bajo voltaje y capacidades analíticas avanzadas. Basado en un legado de modelos emblemáticos (SEM4000X/Pro, SEM5000X/Pro, SEM3200/3300), integra tecnologías de vanguardia para abordar diversas necesidades de investigación e industriales, desde el análisis de fallos de semiconductores hasta la caracterización de nanomateriales.

Arquitectura tecnológica central

La serie SEM-X está diseñada en torno a cinco pilares de innovación:

1. Cañón de electrones de emisión de campo SchottkyUn cañón de alto brillo y larga duración genera un haz de electrones estable con corriente ajustable (1 pA–65 nA), lo que permite obtener imágenes precisas de muestras delicadas. Los filamentos prealineados (SEM3200/3300) garantizan un rendimiento constante, mientras que las estructuras de doble ánodo (SEM3200) aumentan la resolución de bajo voltaje en un 10 % y la relación señal-ruido en un 30 %.

   
   

2. "Super ÓpticaEsta tecnología patentada elimina los cruces de haces, lo que reduce los efectos de carga espacial y las aberraciones de la lente. Combinada con lentes de objetivo compuestas electrostáticas-electromagnéticas (SEM5000Pro/5000X), alcanza una resolución de 0,6 nm a 15 kV (SEM5000X) y 1,2 nm a 1 kV (SEM5000Pro), superando los límites tradicionales de los microscopios de barrido electrónico (SEM3300 supera los 2,5 nm a 15 kV).

   
   

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4. Tecnología de desaceleración de doble hazIntegra la desaceleración del haz en la lente (minimizando la pérdida de energía de los electrones) y la desaceleración en tándem de la platina de muestra (mejorando la captura de la señal). Esto reduce la tensión de aterrizaje a la vez que mantiene la resolución, un factor crucial para muestras no conductoras (p. ej., polímeros y tejidos biológicos).

   
   

5. Modo de bajo vacíoFunciona a 10–180 Pa sin aperturas que limiten la presión, utilizando una cámara de vacío con lente objetivo especialmente diseñada para alcanzar una resolución de 1,5 nm a 30 kV. La ionización de gas neutraliza la carga superficial (p. ej., placas de circuito impreso, cáscara de piña), lo que permite obtener imágenes de materiales poco conductores (SEM4000Pro).

   
   

6. Sistema multidetector:Incluye detectores UD-SE/BSE en columna (alta resolución), detectores LD montados en cámara (imágenes estereoscópicas), detectores LVD de bajo vacío (captura de fotones) y análisis cristalográfico STEM/EDS/EBSD opcional.

   
   

Componentes clave y especificaciones de rendimiento

La serie SEM-X cuenta con componentes modulares optimizados para la flexibilidad:

Aplicaciones en diferentes industrias

• Semiconductor:Análisis de fallas de chips IC (fresado de sección transversal, preparación de láminas TEM), inspección de nodos de 7 nm/5 nm (integración FIB-SEM inspirada en SEM5000X/DB550).

  
  

• Ciencias de los materiales: Caracterización de nanoestructuras (materiales mesoporosos SBA-15, cátodos de baterías de litio), análisis de materiales compuestos (fibras de carbono, polímeros).

  
  

• Ciencias de la vida:Reconstrucción de neuronas 3D (SEM6000-Bio), estudios de morfología celular (iridóforos de piel de lagarto), imágenes de tejido duplicativo (modo de bajo vacío).

  
  

• Control de calidad industrial:Inspección de fibra de vidrio de PCB (bajo vacío de 100 Pa), evaluación de daños en fibra de polímero (modo de bajo voltaje), detección de defectos en piezas de automóviles.

  
  

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Ventajas sobre los SEM convencionales

• Resolución y velocidadImágenes 5 veces más rápidas que los SEM convencionales (2×100 M píxeles/s, tiempo de permanencia de 10 ns/píxel, SEM6000), con resolución subnanométrica.

  
  

• Sensibilidad de bajo voltaje:Permite obtener imágenes de muestras sensibles al haz (por ejemplo, baterías de litio, tejidos biológicos) sin recubrimiento.

  
  

• Versatilidad:Cambia sin problemas entre los modos de alto vacío (resolución nanométrica) y bajo vacío (muestras propensas a cargarse).

  
  

• Capacidad de expansión:Admite accesorios opcionales (nanomanipuladores, sistemas de inyección de gas, etapas criogénicas) para aplicaciones especializadas.

  
  

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4. Óptica electrónica de supertúnel SEM

   
   

5. Tecnología de desaceleración de doble haz SEM

   
   

6. SEM de resolución de 0,6 nm

   
   

7. SEM en modo de bajo vacío

   
   

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9. SEM multidetector para ciencia de materiales

   
   

10. Nanoanálisis automatizado SEM